科技成果路演系列活动（成果需求汇编）——新装备类推介之一

1、无掩模高精度光刻打印一体化装备

一、成果来源：东北师范大学

二、成果简介：

中、高精度性能的光刻和打印设备仅国内实验室应用的需求量就非常巨大，每年有几百台的缺口。将光刻和打印一体化，可以有效扩展设备功能，作大范围的满足当前各种二维和三维微结构制作的需求，应用在生物医疗、二维材料、微机电系统、仿生表面等各种研究领域。但目前国内外还没有此类一体化设备，同时小型高精度的光刻或者打印设备基本被国外垄断。

研发团队利用数字阵列微镜（DMD）形成无掩模光刻和打印一 体化设备，以满足多种领域在二维、三维微结构制作方面实验研究需求，镜头可以提供多样化选择（2倍、5倍、10倍甚至 20倍），光源可以选择365nm、385nm、405nm不同波段。配备可以方便二次开发的软件，根据自己的需求，组合各种命令，形成各种图形高光和结构打印的特定操作软件。

三、合作方式：技术转让